出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/11/20 09:51 UTC 版)
「微細加工技術」の記事における「電子線による直接描画」の解説
詳細は「電子線描画装置」を参照 真空中で電子線によって直接フォトレジストを塗布した材料上にパターンを形成する。走査にはラスタースキャンとベクタースキャンがある。主にフォトリソグラフィのマスクパターンの製造に用いられる。
※この「電子線による直接描画」の解説は、「微細加工技術」の解説の一部です。
「電子線による直接描画」を含む「微細加工技術」の記事については、「微細加工技術」の概要を参照ください。
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