出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/06/03 00:28 UTC 版)
「半導体産業」の記事における「フォトマスク（レチクル）作成工程」の解説
レイアウト設計と回路パターンとフォトマスク（多くの場合がレチクル）の作成工程がある。フォトマスク類はレーザー描画装置や電子ビーム露光装置によって細かな画像が描かれ作成される。詳細はフォトマスク#製造工程と使用法を参照のこと。フォトマスクもアウトソーシングによる請負会社が現れている。
※この「フォトマスク（レチクル）作成工程」の解説は、「半導体産業」の解説の一部です。
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