低温ポリシリコンとは? わかりやすく解説

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ていおん‐ポリシリコン〔テイヲン‐〕【低温ポリシリコン】

読み方:ていおんぽりしりこん

セ氏600度以下で形成できる多結晶シリコン薄膜トランジスターTFT)の基板製造する際、石英ガラス基板を必要とする高温ポリシリコン比べ安価なガラス基板用いることができ、大型化が容易という利点がある。LTPSlow temperature polysilicon)。


低温ポリシリコン

非結晶のシリコンを用いてトランジスターを作るアモルファスシリコン液晶に対して、ポリシリコン液晶は多結晶のシリコンによってトランジスターを形成する。小型化、高解像度化では、ポリシリコンが有利と言われる。

(執筆:オーディオビジュアル評論家 藤原陽祐)
※この情報は「1999~2002年」に執筆されたものです。


低温ポリシリコン

読み方ていおんポリシリコン
【英】Low-temperature Poly Silicon, LTPS

低温ポリシリコンとは、液晶ディスプレイなどの電極である薄膜トランジスタTFT)に使われる材料のうち、およそ摂氏600度以下の低温環境下で形成するポリシリコンのことである。

低温ポリシリコンは基板材料としてガラス用いられている。低温ポリシリコンは高温ポリシリコンに対して安価製造できるという利点がある。低温ポリシリコンに対して、およそ1000度以上の高温形成されるポリシリコンは「高温ポリシリコン」と呼ばれる

低温ポリシリコンはTFT液晶素材などとして使用されており、低温ポリシリコン液晶などと呼ばれている。


低温ポリシリコン

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/06/14 02:23 UTC 版)

TFT液晶」の記事における「低温ポリシリコン」の解説

低温ポリシリコン (Low-temperature polycrystalline silicon, LTPS) は、安価な通常の無アルカリ・ガラス基板上に成膜したアモルファス・シリコンをレーザーアニール等による600以下の低温多結晶化するのである。低温ポリシリコンは、結晶粒界によって電流妨げられる割合が高いために高温ポリシリコンより電子移動度低くなるが、それでもアモルファス・シリコン比べれば数百倍のスイッチング動作が可能となり、特にCOG方式でのドライバ回路までガラス基板上に集積することで、接続点が少なくなるために信頼性が高まるが、額縁部分は少し広くなる。ただし、外部ICでは3.3-5Vでの駆動電圧なのに対して、低温ポリシリコンによる駆動回路では8-12V程度が必要となり、携帯機器求める低消費電力化の点では逆行することになってしまう。HTPSより特性は劣るが安価なため、利用進んでいる。

※この「低温ポリシリコン」の解説は、「TFT液晶」の解説の一部です。
「低温ポリシリコン」を含む「TFT液晶」の記事については、「TFT液晶」の概要を参照ください。

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