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高温ポリシリコン

読み方：こうおんポリシリコン
【英】High Temperature Poly-Silicon

高温ポリシリコンとは、液晶ディスプレイなどの電極である薄膜トランジスタ（TFT）に使われる材料の1つであり、摂氏1000度以上の高温環境下で形成するポリシリコンのことである。

ポリシリコンは、アモルファス（非晶質）状態のシリコンであるアモルファスシリコン膜を熱アニールすることで結晶化させたものを指す。

高温ポリシリコンでは、高温に耐えることができる石英基板を使用する必要があるが、石英基板が高価な上に、大型化が困難という課題がある。

高温ポリシリコンに対し、比較的低温とされる600度以下の環境下で薄膜を形成する低温ポリシリコンが開発されている。低温ポリシリコンは、ガラス基板に成膜したアモルファスシリコンをレーザーアニールなどによって多結晶化するものである。低温ポリシリコンは、大型で安価なガラス基板を使って製造できることから、大画面化、製造コストの削減などの面で有利とされている。

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