熱CVD
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/10/19 08:08 UTC 版)
熱CVD（ねつシーブイディー、英語: thermal chemical vapor deposition）は、熱分解による生成物や化学反応によって、薄膜を形成する手法である[1]。化学気相成長（CVD: chemical vapor deposition、化学蒸着）の一種であり、熱エネルギーによる原料ガスの分解生成物や化学反応を利用することが特徴である。
- ^ a b c d e 図解・薄膜技術、真下正夫、畑朋延、小島勇夫、培風館、1999年、ISBN 4-563-03541-6
- ^ カーボンナノチューブ製造技術開発の動向、多田 国之
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