イオン注入
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出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2019/09/26 04:03 UTC 版)
イオン注入（イオンちゅうにゅう、英語: ion implantation）は、物質のイオンを固体に注入する加工方法である。イオン注入は固体の特性を変化させる点で材料工学に属し、工業的には半導体の生産に使用され、金属の表面処理など様々な材料科学の研究などが行われている。イオン注入は、対象の物質と別の元素を注入することにより、物質に化学的変化を与えると同時に、物質の破損または破壊など、構造的な変化も与える。
- ^ 「半導体LSIのできるまで」編集委員会編著『よくわかる半導体LSIのできるまで』日刊工業新聞社、2004年、改訂第2版。ISBN 4-526-05375-9。
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「イオン注入」の続きの解説一覧
- 1 イオン注入とは
- 2 イオン注入の概要
- 3 脚注
「Ion implantation」の例文・使い方・用例・文例
- 混合様式 《古代ローマ建築の様式で, イオニア様式 (Ionic order) とコリント様式 (Corinthian order) の折衷様式》.
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