High-κ絶縁体とは? わかりやすく解説

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High-κ絶縁体

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/11/05 09:28 UTC 版)

High-κ絶縁体(はいかっぱぜつえんたい)とは、(二酸化ケイ素と比べて)高い比誘電率 κ を持つ材料に対する呼称である。半導体製造プロセスでHigh-κ絶縁体は、二酸化ケイ素ゲート絶縁体やその他の絶縁膜を置き換えるために用いられる。high-κゲート絶縁体は、ムーアの法則と呼ばれるマイクロ電子部品のさらなる微細化の戦略の一つである。


  1. ^ Process Integration, Devices, and Structures”. International Technology Roadmap for Semiconductors: 2006 Update. 2007年9月27日時点のオリジナル[リンク切れ]よりアーカイブ。
  2. ^ Kaushik Roy, Kiat Seng Yeo (2004). Low Voltage, Low Power VLSI Subsystems. McGraw-Hill Professional. Fig. 2.1, p. 44. ISBN 0-07-143786-X. https://books.google.com/books?id=jXm4pNxCSCYC&printsec=frontcover&dq=subthreshold+mosfet+%22static+power%22 
  3. ^ Lau, W. S.; Zhong, L.; Lee, Allen; See, C. H.; Han, Taejoon; Sandler, N. P.; Chong, T. C. (1997). “Detection of defect states responsible for leakage current in ultrathin tantalum pentoxide (Ta[sub 2]O[sub 5]) films by zero-bias thermally stimulated current spectroscopy”. Applied Physics Letters 71 (4): 500. Bibcode1997ApPhL..71..500L. doi:10.1063/1.119590. 
  4. ^ Lau, W. S.; Wong, K. F.; Han, Taejoon; Sandler, Nathan P. (2006). “Application of zero-temperature-gradient zero-bias thermally stimulated current spectroscopy to ultrathin high-dielectric-constant insulator film characterization”. Applied Physics Letters 88 (17): 172906. Bibcode2006ApPhL..88q2906L. doi:10.1063/1.2199590. 
  5. ^ Intel 45nm High-k Silicon Technology Page”. Intel.com. 2011年11月8日閲覧。
  6. ^ IEEE Spectrum: The High-k Solution
  7. ^ UltimateLowPower Technology|Advanced Process Technology|Technology|NEC Electronics”. Necel.com. 2010年2月19日時点のオリジナルよりアーカイブ。2011年11月8日閲覧。


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