出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/12/22 02:13 UTC 版)
詳細は「極端紫外線リソグラフィ」を参照 極端紫外線リソグラフィ(EUV)は現時点では最も実現性が高い次世代リソグラフィの候補でオランダのASMLが開発を進めている。
※この「深紫外光」の解説は、「次世代リソグラフィ」の解説の一部です。
「深紫外光」を含む「次世代リソグラフィ」の記事については、「次世代リソグラフィ」の概要を参照ください。
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