プラナリゼーションとは？わかりやすく解説

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プラナリゼーション

ぷらなりぜーしょん

超LSI デバイスの製造において、最終的な配線回路の超高密度・三次元化構造を実現するため、デバイスプロセスで生じた 0.5～1μm 程度の凹凸をリソグラフィ技術の焦点深度に見合うところまで平坦にすることを指す。次世代 LSI 製造のため、層間絶縁膜や配線金属膜のプラナリゼーションCMP（Chemical & MechanicalPolishing)法が提案され、今では専用の研磨装置が市販されている。

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