近接場光

デジタル大辞泉

きんせつば‐こう〔‐クワウ〕【近接場光】

読み方：きんせつばこう

光の波長よりも極めて小さい開口部などで、局所的にまとわりつくように存在する特殊な光。プリズムなどの全反射における反射面の背後ににじみ出る光（エバネッセント光）もその一。いずれも一般的な光と異なり、遠方に伝播しない。走査型近接場光顕微鏡、半導体などの微細加工技術、大容量記憶装置への応用が試みられている。

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近接場光

読み方：きんせつばこう

近接場光とは、光の波長よりも微小な物質構造に光を当てた際に、その物質構造の表面に発生するが 遠くへ伝搬してゆくことがない、特殊な光のことである。

例えば、波長よりも小さな開口に光を入射させると、その開口と同じ程度の（光波長よりも小さい）光スポットを得ることができる。この方法によって、レンズで光を絞るよりも小さな光スポットを得ることができる。近接場光の応用法としては、顕微鏡による計測や微細加工、磁気ディスクメモリ、あるいはタンパク質の観察、といったことが可能になると期待されている。

ウィキペディア

エバネッセント場

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2023/03/01 06:56 UTC 版)

エバネッセント場（エバネッセントば、英: evanescent field）とは、電磁波（光）が特定の条件下において金属など反射性の媒質内部に誘起する電磁場の変動をいう。エバネッセント場から放出（反射）される電磁波はエバネッセント波やエバネッセント光、近接場光と呼ばれる。