画像技術用語集 |
 
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フォトマスク
読み：ふぉとますく
英語：photomask
半導体ICを製作するための回路パターンの原版のこと．これを通してフォトレジストに露光する．ガラス基板上に金属膜を蒸着し，フォトレジストを用いてエッチングによりパターンを形成したものが高精度の原版となるが，銀塩写真法によるマスクも多く使用される．
英語：photomask
半導体ICを製作するための回路パターンの原版のこと．これを通してフォトレジストに露光する．ガラス基板上に金属膜を蒸着し，フォトレジストを用いてエッチングによりパターンを形成したものが高精度の原版となるが，銀塩写真法によるマスクも多く使用される．
ふぉとますくに関連した本
- フォトマスク 法元盛久 東京電機大学出版局
- 入門フォトマスク技術―LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク 竹花 洋一 工業調査会
- フォトマスク技術のはなし―超LSI、液晶、プリント板を支える 竹花 洋一 工業調査会
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