画像技術用語集

フォトマスク

読み：ふぉとますく
英語：photomask

半導体ICを製作するための回路パターンの原版のこと．これを通してフォトレジストに露光する．ガラス基板上に金属膜を蒸着し，フォトレジストを用いてエッチングによりパターンを形成したものが高精度の原版となるが，銀塩写真法によるマスクも多く使用される．

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フォトマスク

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2012/01/10 00:13 UTC 版)

フォトマスクとは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。

半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。

高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。