OVD法（Outside vapor deposition method）
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/06/06 00:42 UTC 版)
「光ファイバー」の記事における「OVD法（Outside vapor deposition method）」の解説
MCVD法と同様にArガスを使ってSiCl4とGeCl4などのガラス原料ガスの蒸気を作りH2とO2のガスで加熱したターゲットロッドの側面に吹き付けてスートを堆積させる。スートが十分に成長すれば、ターゲット・ロッドをスートの管状堆積体（スート母材）から引き抜き、次にスート母材を高温加熱によって焼結して、管状で透明な光ファイバー母材を得る。
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