電子線描画装置
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2024/04/12 02:39 UTC 版)
電子線描画装置（でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB (electron beam) 露光装置、Electron Beam Lithography Exposure）は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。電子銃から発せられた電子線を電子レンズやアパーチャー、デフレクタなどを通し、X-Y-Zステージを微細に制御しながらマスクブランクスへ照射して目的のパターンを露光する。また、マーク付きウェハーへの直接描画（ダイレクト描画）機能を持つものもある。
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「電子線描画装置」の続きの解説一覧
- 1 電子線描画装置とは
- 2 電子線描画装置の概要
- 3 電子線描画装置の種類
- 4 参考文献
電子線描画装置
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2017/12/22 02:13 UTC 版)
「次世代リソグラフィ」の記事における「電子線描画装置」の解説
詳細は「電子線描画装置」を参照 電子線描画装置はマスクを製造するために使用されてきたが、生産性に劣るため量産用のウエハーへの適用には課題が残る。
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