自己組織化リソグラフィ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2019/07/19 03:46 UTC 版)
自己組織化リソグラフィ（じこそしきかリソグラフィ）(Directed Self-Assembly, DSA)はブロック共重合体の自己組織化現象を利用したナノ構造構築法の一手法で次世代の微細加工技術として期待される[1]。
- ^ a b c “自己組織化リソグラフィ 〜より高性能で低コストな半導体の実現を目指して〜”. 2016年10月8日閲覧。
- ^ 木原尚子. "自己組織化リソグラフィ技術" 東芝レビュー 67.4 (2012): 44-47.
- ^ a b 生井準人, 杉田光, 日城良樹. "自己組織化材料の半導体微細パターニングへの応用" JSR テクニカルレビュー 119 (2012): 7-13.
- ^ a b c d MITとSRC、誘導自己組織化（DSA）による微細パターン形成を容易にするテンプレート設計法
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