出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/07/18 10:17 UTC 版)
「半導体の低消費電力技術」の記事における「high-kゲート絶縁膜」の解説
酸化ケイ素より誘電率の大きい物質をゲート絶縁膜に利用することで、ゲート絶縁膜の厚さを維持したまま大きな誘電率を確保する。
※この「high-kゲート絶縁膜」の解説は、「半導体の低消費電力技術」の解説の一部です。
「high-kゲート絶縁膜」を含む「半導体の低消費電力技術」の記事については、「半導体の低消費電力技術」の概要を参照ください。
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