5 nm プロセスノードとは? わかりやすく解説

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5 nm プロセスノード

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/11/09 21:02 UTC 版)

5ナノメートル」の記事における「5 nm プロセスノード」の解説

ITRSロジックデバイスグラウンドルール TSMC(案) ITRS ロジックデバイスグラウンドルール プロセス・ネーム 6/5nm 8/7nm 5nm 11/10nm トランジスタ・ゲートピッチ(nm) 32 42 44 48 配線ピッチ(nm) 20 24 32 36 数字は低いほど良い。トランジスタ・ゲートピッチはCPP(contacted poly pitch)、配線ピッチMMP(minimum metal pitch)とも呼ばれる

※この「5 nm プロセスノード」の解説は、「5ナノメートル」の解説の一部です。
「5 nm プロセスノード」を含む「5ナノメートル」の記事については、「5ナノメートル」の概要を参照ください。

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