中電流イオン注入装置
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2019/09/26 04:03 UTC 版)
発生させることができるイオンビーム電流はマイクロアンペアオーダーであり、比較的低濃度のドーパントを精密注入するときに用いられる。数keVから数100keVの範囲でイオンを加速することができるため汎用性が高く、通常の半導体デバイスの製造工程において適用工定数が最も多い。
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