Electron beam lithography

走査電子顕微鏡基本用語集

電子線描画（電子線リソグラフィー）　electron-beam lithography,EB lithography,EB writing

レジストを塗布した基板上に電子プローブを照射し、電子線損傷を利用して微細パターンを描く技術。パターンを描くためには、電子プローブをXY単独に走査する機能、ビームブランキング機能が必要である。電子プローブだけで描画できる領域は小さいので、大きなパターンを描くには試料ステージの移動も併用する。

関連する用語

• 電子プローブ
• ビームブランキング
• 試料ステージ

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電子線描画装置

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2024/04/12 02:39 UTC 版)

電子線描画装置（でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB (electron beam) 露光装置、Electron Beam Lithography Exposure）は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。電子銃から発せられた電子線を電子レンズやアパーチャー、デフレクタなどを通し、X-Y-Zステージを微細に制御しながらマスクブランクスへ照射して目的のパターンを露光する。また、マーク付きウェハーへの直接描画（ダイレクト描画）機能を持つものもある。