集束イオンビームとは? わかりやすく解説

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集束イオンビーム FIB: focused ion beam


集束イオンビーム

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2017/11/20 14:10 UTC 版)

集束イオンビーム(FIB,Focused Ion Beam)は、イオンを電界で加速したビームを細く絞ったものである。 集束イオンビームは、微細加工、蒸着観察などの用途に用いられる。




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集束イオンビーム

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/06/01 03:22 UTC 版)

マスクレス リソグラフィ」の記事における「集束イオンビーム」の解説

詳細は「集束イオンビーム」を参照 集束イオンビームシステムはイオン注入用や他の形式では対応できない用途において現在一般的に使用される

※この「集束イオンビーム」の解説は、「マスクレス リソグラフィ」の解説の一部です。
「集束イオンビーム」を含む「マスクレス リソグラフィ」の記事については、「マスクレス リソグラフィ」の概要を参照ください。


集束イオンビーム

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/11/20 09:51 UTC 版)

微細加工技術」の記事における「集束イオンビーム」の解説

詳細は「集束イオンビーム」を参照 収束したイオンビームによって直接パターン作成する柔軟性があるものの、生産性は低い。

※この「集束イオンビーム」の解説は、「微細加工技術」の解説の一部です。
「集束イオンビーム」を含む「微細加工技術」の記事については、「微細加工技術」の概要を参照ください。

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