三省堂 大辞林

イオン-ちゅうにゅう ―にふ 4 【―注入】

〔ion implantation〕半導体に不純物を添加する方法の一。不純物をイオン化してビームにし、電気的に制御しながら目的の半導体に注入するので、正確に添加量やその分布を変えることができる。現在の IC 生産技術の中核の一。

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イオン注入

出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2011/12/19 17:10 UTC 版)

イオン注入（イオンちゅうにゅう、英: ion implantation）は、物質のイオンを固体に注入する加工方法である。イオン注入は固体の特性を変化させる点で材料工学に属し、工業的には半導体の生産に使用され、金属の表面処理など様々な材料科学の研究などが行われている。イオン注入は、対象の物質と別の元素を注入することにより、物質に化学的変化を与えると同時に、物質の破損または破壊など、構造的な変化も与える。