第１段階 (SC-1): 有機物とパーティクルの除去
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/05/11 05:23 UTC 版)
「RCA洗浄」の記事における「第１段階 (SC-1): 有機物とパーティクルの除去」の解説
第１段階 (SC-1, SCはStandard Cleanの意) は、75または80 ℃ で約10分間、以下の比率の混合液で洗浄する（比率を変えることもある）。 5 ：脱イオン水 1 ：NH4OH (水酸化アンモニウム, 29% NH3) 水溶液 1 ：H2O2 (過酸化水素, 30%) 水溶液 この塩基-過酸化物の混合物が有機残留物を除去する。またSC-1は表面と粒子のゼータ電位を調整するため、非溶解性のパーティクルも効果的に除去する。SC-1によってシリコン表面に約10オングストロームの薄い二酸化ケイ素層が形成し、ある程度の金属汚染（特に鉄）が起こるため、その後の段階で除去する必要がある。
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