研磨用語集 |
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しー・おー・ぴー
シリコン単結晶の洗浄工程のエッチングによりウェハ表面に生じる結晶起因の欠陥のうち、パーティクルカウンターによりパーティクルとして計数されるもの。パーティクルを意味する crystal-originated particle の略語であるが、実体は0.2~0.5μmの大きさのピットである。
シリコン単結晶の洗浄工程のエッチングによりウェハ表面に生じる結晶起因の欠陥のうち、パーティクルカウンターによりパーティクルとして計数されるもの。パーティクルを意味する crystal-originated particle の略語であるが、実体は0.2~0.5μmの大きさのピットである。
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- OPアンプによるフィルタ回路の設計―OPアンプ大全〈第3巻〉 (アナログ・テクノロジシリーズ) アナログデバイセズ CQ出版
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