「かがくきそうせいちょうほう」を解説文に含む見出し語の検索結果(1~6/6件中)
読み方:かがくきそうせいちょうほう原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜...
読み方:かがくきそうせいちょうほう原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜...
読み方:かがくきそうせいちょうほう原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜...
読み方:かがくきそうせいちょうほう【英】Chemical Vapor Deposition, CVD化学気相成長法とは、半導体集積回路(IC)を製造する工程のうち、化学反応を利用して基板をシリコンの薄...
読み方:かがくきそうせいちょうほう【英】Chemical Vapor Deposition, CVD化学気相成長法とは、半導体集積回路(IC)を製造する工程のうち、化学反応を利用して基板をシリコンの薄...
触媒化学気相成長法(しょくばいかがくきそうせいちょうほう、略称:Cat-CVD、別称:ホットワイヤCVD)は、真空槽内で通電加熱した触媒体(主にタングステンなどの高融点金属)表面において原料ガスを分解...
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