CMOS基板
Complimental Metal Oxide Semiconductorの略。双補型金属酸化膜半導体のことで、現在の半導体ICの基本素材。DMDはこのCMOS基板上にパーツが設置される。つまり、一般の半導体製造工程でDMDは製造できるということ。
（執筆：オーディオビジュアル評論家 麻倉怜士）
※この情報は「1999～2002年」に執筆されたものです。
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