「ファーネスアニール」を解説文に含む見出し語の検索結果(1～10/11件中)
ファーネスアニール（Furnace anneal）とは半導体デバイス製造で用いられるプロセスで、電気的特性に影響を与えるための多数の半導体ウェハーの加熱から成る。異なる効果のために複数の熱処理法が考案...
ファーネスアニール（Furnace anneal）とは半導体デバイス製造で用いられるプロセスで、電気的特性に影響を与えるための多数の半導体ウェハーの加熱から成る。異なる効果のために複数の熱処理法が考案...
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/10/04 06:38 UTC 版)「ラピッドサーマルプロセス」の記事における「ラピッドサーマルアニール」の解説ラピッドサー...
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/08/07 04:17 UTC 版)「半導体デバイス製造」の記事における「基板工程」の解説基板工程（フロントエンド、FEOL...
ナビゲーションに移動検索に移動ラピッドサーマルプロセス（英: rapid thermal processing、RTP）とは、シリコンウェハーを数秒あるいはそれ以下の時間スケールで高温（1,0...
ナビゲーションに移動検索に移動ラピッドサーマルプロセス（英: rapid thermal processing、RTP）とは、シリコンウェハーを数秒あるいはそれ以下の時間スケールで高温（1,0...
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