ブラズマエッチング法
現在の半導体製造の一般的な手法。DMDにおいてはミラーが傾くスペース、及びアドレス用トランジスターの配置場所を削る製造手法のことを指す。開発初期のDMDはこの手法の採用によって実用化にめどが立ったとされている。
（執筆：オーディオビジュアル評論家 麻倉怜士）
※この情報は「1999～2002年」に執筆されたものです。
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