VAD法とは? わかりやすく解説

VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/06/06 00:42 UTC 版)

光ファイバー」の記事における「VAD法(Vapor phase axial deposition method気相付け法)」の解説

水素酸素混合気体火炎中で、高純度のSiCl4や屈折率変化持たせるGeCl4などを燃焼させることにより、不純物少なガラス精製し、種となる棒の上に積もらせ、棒を移動させることにより長くしていく方法である。内周部と外周部で添加物種類濃度変えることによりGI型のコア形成コアクラッド同時形成ができる。大型母材精製することができるため、低コスト光ファイバー芯線製造することができる。

※この「VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)」の解説は、「光ファイバー」の解説の一部です。
「VAD法(Vapor phase axial deposition method、気相軸付け法)」を含む「光ファイバー」の記事については、「光ファイバー」の概要を参照ください。

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