リモート・プラズマ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/10/13 05:27 UTC 版)
リモート・プラズマ (またの名は、ダウンストリーム・プラズマもしくはアフターグロー・プラズマ)は、プラズマと材料の相互作用がプラズマ・アフターグロー内のプラズマから離れた場所で発生するプラズマ処理方法である[1][2]。
関連項目
- 化学気相成長
- コロナ処理
- プラズマ (物理) 応用記事一覧
- 物理気相成長
- プラズマ活性化
- プラズマ化学
- プラズマ洗浄
- プラズマ活性化ボンディング
- 反応性イオンエッチング
リファレンス
- ^ Tommi Kääriäinen; David Cameron; Marja-Leena Kääriäinen; Arthur Sherman (17 May 2013). Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications. Wiley. pp. 21–. ISBN 978-1-118-74742-1
- ^ Alexander Fridman (5 May 2008). Plasma Chemistry. Cambridge University Press. pp. 532–. ISBN 978-1-139-47173-2
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