「分子線エピタキシー法」を解説文に含む見出し語の検索結果(11~20/150件中)
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ナビゲーションに移動検索に移動浜中 宏一(はまなか こういち、1941年(昭和16年)は、日本の工学研究者。専門は、電子デバイス・光デバイス。工学博士(慶應義塾大学・1996年)。千歳科学技術大学光科...
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出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/05/19 07:34 UTC 版)「ベリリウム」の記事における「電子材料」の解説ベリリウムはIII-V族半導体においてP型...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...
シリコンウェハの表面にフォトレジストを生成するために利用されているスピンコート装置(ローレル・テクノロジー社製)スピンコート(Spin coating)とは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄...