「ArFエキシマレーザリソグラフィ用新規レジスト材料」を解説文に含む見出し語の検索結果(1~3/3件中)
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2018/02/28 09:42 UTC 版)「武智敏」の記事における「ArFエキシマレーザリソグラフィ用新規レジスト材料」の解説LS...
武智 敏(たけち さとし)は日本の工学者、技術者。富士通セミコンダクター担当部長。LSI製造に使用されるArFエキシマレーザー光を用いた写真製版(リソグラフィ技術)用の実用的なレジスト(感光性樹脂)の...
山崎 貞一賞(やまざき ていいちしょう)は、毎年、一般財団法人材料科学技術振興財団(MST)によって、論文の発表、特許の取得、方法・技術の開発等を通じて、実用化につながる優れた創造的業績をあげている人...
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