「日本マイクログラビティ応用学会」を解説文に含む見出し語の検索結果(1～10/59件中)
この記事には複数の問題があります。改善やノートページでの議論にご協力ください。出典がまったく示されていないか不十分です。内容に関する文献や情報源が必要です。（2014年7月）組織の特筆性の基準を満たし...
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出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2020/11/11 09:05 UTC 版)「石川正道」の記事における「人物・経歴」の解説愛知県生まれ。1978年東北大学理学部化学...
ナビゲーションに移動検索に移動小田原 修（おだわら おさむ、1951年4月 - ） は、日本の材料工学者。東京工業大学名誉教授。元日本マイクログラビティ応用学会会長。文部科学大臣表彰科学技術賞受賞。人...
この記事の主題はウィキペディアにおける人物の特筆性の基準を満たしていないおそれがあります。基準に適合することを証明するために、記事の主題についての信頼できる二次資料を求めています。なお、適合することが...
ナビゲーションに移動検索に移動石川 正道（いしかわ まさみち、1955年 - ） は、日本の材料科学者。三菱総合研究所先端科学研究所所長や、東京工業大学統合研究院教授、日本マイクログラビティ応用学会会...
藤田 修（ふじた おさむ） は、日本の機械工学者。学位は、工学博士。北海道大学教授。日本マイクログラビティ応用学会会長。国際燃焼学会副会長。元日本機械学会副会長。人物・経歴北海道滝川高等学校を経て&#...
ナビゲーションに移動検索に移動佐藤 順一（さとう じゅんいち、1948年11月1日 - ）は、日本の技術者。IHI検査計測代表取締役社長や、日本機械学会会長、日本工学会会長等を歴任した。人物・経歴19...
シリコンゲルマニウムは、珪素とゲルマニウムで構成される半導体。概要シリコンにゲルマニウムを添加することにより歪みシリコンが形成され、電子移動度の優れた半導体になる。従来であればヒ化ガリウム等の化合物半...
シリコンゲルマニウムは、珪素とゲルマニウムで構成される半導体。概要シリコンにゲルマニウムを添加することにより歪みシリコンが形成され、電子移動度の優れた半導体になる。従来であればヒ化ガリウム等の化合物半...
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