「レーザ蒸着法」を解説文に含む見出し語の検索結果(1~5/5件中)
2つ以上のレーザー源を用い、光学系の操作によりレーザー源を切り替えることにより、同一の基板上に連続して成膜するレーザー蒸着法。1つのレーザー源で成膜中に他のレーザー源のメンテナンスが可能であるため、原...
実験室レベルで用いられるレーザ発信装置に比べ、出力が大きく長時間安定性にも優れている。そのため長尺線材をレーザー蒸着法により成膜する際に、全長にわたって安定した特性を持つ膜が成膜可能となる。
レーザ蒸着法等において、ターゲットはレーザ光等が照射された部分から蒸発する。その結果、ターゲット表面でその部分だけがえぐれ凹凸が生じやすい。ターゲット表面に大きな凹凸が生じると成膜条件が変化する等の悪...
ISD (Inclined SubstrateDeposition)法線材 レーザー蒸着法あるいは電子ビーム蒸着法において、ターゲットに対して基板をある角度を持たせて対向させ成膜することにより、他に特...
ISD (Inclined SubstrateDeposition)法線材 レーザー蒸着法あるいは電子ビーム蒸着法において、ターゲットに対して基板をある角度を持たせて対向させ成膜することにより、他に特...
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