「化学機械研磨」を解説文に含む見出し語の検索結果(1~10/54件中)
読み方:さんかせりうむセリウムの酸化物。希土類酸化物の一つ。液晶ディスプレーやレンズなどの化学機械研磨(CMP)の、仕上げ工程の研磨材として用いられる。化学式CeO2...
読み方:さんかせりうむセリウムの酸化物。希土類酸化物の一つ。液晶ディスプレーやレンズなどの化学機械研磨(CMP)の、仕上げ工程の研磨材として用いられる。化学式CeO2...
読み方:さんかせりうむセリウムの酸化物。希土類酸化物の一つ。液晶ディスプレーやレンズなどの化学機械研磨(CMP)の、仕上げ工程の研磨材として用いられる。化学式CeO2...
読み方:しーえむぴー《chemical-mechanical polishing》砥粒または研磨液がもつ化学成分の作用とともに研磨すること。シリコンウエハーの平坦化をはじめ、半導体製造における重要な工...
読み方:しーえむぴー《chemical-mechanical polishing》砥粒または研磨液がもつ化学成分の作用とともに研磨すること。シリコンウエハーの平坦化をはじめ、半導体製造における重要な工...
読み方:しーえむぴー《chemical-mechanical polishing》砥粒または研磨液がもつ化学成分の作用とともに研磨すること。シリコンウエハーの平坦化をはじめ、半導体製造における重要な工...
読み方:しーえむぴー《chemical-mechanical polishing》砥粒または研磨液がもつ化学成分の作用とともに研磨すること。シリコンウエハーの平坦化をはじめ、半導体製造における重要な工...
読み方:しーえむぴー《chemical-mechanical polishing》砥粒または研磨液がもつ化学成分の作用とともに研磨すること。シリコンウエハーの平坦化をはじめ、半導体製造における重要な工...
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2021/08/02 03:28 UTC 版)「セリウム」の記事における「ガラス研磨剤」の解説1960年代から鉱物(バストネサイト)酸...
出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2019/06/20 13:40 UTC 版)「シャロートレンチアイソレーション」の記事における「プロセスフロー」の解説STIが形成さ...
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