＜＜PLD（Pulsed Laser Deposition）法＞＞

　　　　PLD法はPVD (物理気相蒸着)法の一種であり、真空チャンバー内の焼結体ターゲット にパルスレーザを断続的に照射し、ターゲットをアブレーションすることにより放出 されるフラグメント（イオン、クラスタ、分子、原子）をターゲットと対向して配置 された基板上に薄膜を堆積させる方法です。装置自体は他のPVD薄膜作製技術と比べ 最もシンプルであり、薄膜作製も容易です。
　 　　特徴としては、�@堆積させた薄膜の組成がターゲットに近い、�Aレーザ光を吸収 する物質であれば高融点の物質でも容易に薄膜化できる、などがあげられます。

図に本研究室におけるPLD装置系統の概略図を示します。レーザ発生装置として、 ArFエキシマレーザ(λ=193nm)を用いています。発振されたパルスレーザは、成膜 チャンバー内へ入射窓を通過してターゲット上に水平方向から30°の角度で入射 されます。なおチャンバー内にはターゲットを6種類まで設置することができ、様々 な組み合わせによる薄膜の積層を行うことができます。また、レーザーをターゲット の一点に集中してアブレーションすることがないように、ターゲットホルダーは モーターにより回転させています。