2,4,6-トリ-t-ブチルフェニル基(以下Arと略記する)のような非常にかさ高い基を置換させて反応中心を立体的に保護することにより,不安定リン化学種である対称および非対称ジボスフェン(Ar-P=P-Ar'),ホスブナエチレン(ArP=CRR'),ジチオキソホスホラン(ArPS
2),イミノメチレンホスフィン(ArP=C=NPh),1-ホスファレン(ArP=C=Ph
2)1,3-ジホスファアレン(Ar-P=C=PAr)を安定に単離した。ジホスフェンについては,ハロゲンとの反応,酸化,硫化,セレン化,還元,求核付加,錯体生成について,ボスファエチレンでは異性化,硫化,還元,錯体生成反応について,1-ホスファー,1,3-ジホスフアアレンでは硫化,遼元,錯体生成反応などについて研究した。
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