＜＜有機金属化学気相蒸着法(MOCVD)＞＞

　　薄膜材料を高温中で反応させて基板上に成膜するCVDプロセスのうち、 特にその材料に有機金属を用いる方法を有機金属化学気相蒸着法 (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD)と呼びます。

　　仕組みとしては、金属錯体原料を原料層に入れて液体状態になるように ヒーターで加熱します。キャリアガスを原料層内に流入させることにより、 気化した原料ガスは配管を通って反応室へと運ばれて行きます。気化した 原料はセラミックヒーターで過熱された基板上に蒸着されて成膜が行われます。
　　特徴としては、高真空を必要としない、大面積、複雑な形状の基板にも 成膜可能、量産性に優れているなどがあげられます。