真空
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/06/04 15:44 UTC 版)
真空の利用
真空はそれ自体では価値が無いが、真空における特性を利用することで多くの価値を生み出すことが出来る。真空の利用が盛んになったのは18世紀以降で20世紀、特に1960年代以降は産業の基盤技術として広く利用されるようになった。
主に真空の清浄性、物理特性を利用したもの
圧力の低下（圧力差）を利用したもの
気体の分子密度を利用したもの
気体分子の平均自由行程が長くなることを利用したもの
分子の入射頻度を減少させ、清浄な面を長時間持続させるもの
- 電子源
- 人工格子
液体を利用したもの
主に真空の化学特性を利用したもの
主に半導体プロセスで利用されていて、電子やイオン、プラズマや光による化学反応を利用している。
プラズマ反応の利用による成膜・改質
- 材料合成
- 表面改質
高速イオン注入による組成変更
- イオン注入
- 表面の局所合金化
ガス分子の分解析出による成膜
ガスと表面との反応による成膜・形成
- 化成蒸着
- 化成スパッタリング
- イオンプレーティング
- 硬質皮膜形成
ガスの反応による表面の除去
脚注
参考文献
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関連項目
外部リンク
注釈
出典
- ^ JIS Z 8126-1:1999「真空技術−用語−第 1 部：一般用語」（日本産業標準調査会、経済産業省）
- ^ 広瀬立成・細田昌孝 『真空とはなにか』講談社、1984年、115頁。ISBN 4-06-118155-6。
- ^ 広瀬立成・細田昌孝 『真空とはなにか』講談社、1984年、105頁。ISBN 4-06-118155-6。
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