誘導結合プラズマ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2022/02/20 07:40 UTC 版)
誘導結合プラズマ（ゆうどうけつごうプラズマ、Inductively Coupled Plasma、略称：ICP）は、電子を高周波誘導コイルで加速し気体ガスと衝突させることでガスの一部を電離させ、その電離と電子密度の増加が連鎖することで得られる高温のプラズマである。誘導結合プラズマの温度は10000K程度である。[3]。
- ^ Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite (2011). Physics of Radio-Frequency Plasmas. Cambridge University Press, Cambridge. pp. 219-259. ISBN 978-0521-76300-4.
- ^ Shun'ko, Evgeny V.; Stevenson, David E.; Belkin, Veniamin S. (2014). “Inductively Coupling Plasma Reactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV”. IEEE Transactions on Plasma Science 42 (3): 774-785. doi:10.1109/TPS.2014.2299954. ISSN 0093-3813.
- ^ [https://www.jaima.or.jp/jp/analytical/basic/spectroscopy/icp_2/ 誘導結合プラズマ（ICP）発光分光分析装置の原理と応用, 2022年2月20日, 閲覧.
- ^ 梶家治「高周波プラズマでフロンを分解する」『電気学会誌』第114巻第11号、電気学会、1994年11月、 719-722頁、 doi:10.1541/ieejjournal.114.719、 ISSN 13405551、 NAID 10007209388。
- ^ “熱プラズマによる廃棄物処理”. 2020年10月24日閲覧。
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- 2 誘導結合プラズマの概要
- 3 関連項目
誘導結合プラズマ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/04/20 06:28 UTC 版)
誘導結合プラズマは、電磁誘導、つまり時変磁場によって生成される電流によってエネルギーが供給されるプラズマ源である。
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誘導結合プラズマ
出典: フリー百科事典『ウィキペディア（Wikipedia）』 (2021/06/20 18:29 UTC 版)
詳細は「誘導結合プラズマ」を参照 励起に高周波数の変動磁場によってプラズマ内部に渦電流によるジュール熱を発生させることによって得られる高温のプラズマを利用する。
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