リソグラフィとは? わかりやすく解説

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リソグラフィ

【英】Lithography

リソグラフィとは、半導体製造する際に、基板に光や電子ビームなどで回路パターン転写する手法のことである。特に露光装置(ステッパ)を指してリソグラフィと呼ぶこともある。

リソグラフィの手法では、光性樹脂の膜が形成され基板上に、光や電子ビームなどで回路パターン現像し、さらに保護としての薄膜化学加工して半導体として製造される半導体微細化伴って使用される光は短波長に移行しており、最近では短波長の限界である極紫外線領域にも達しようとしている。ちなみに、リソグラフィは元々「石版印刷」を意味し、リトグラフィあるいはリトグラフなどとも発音される

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リソグラフィ

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2023/09/30 10:03 UTC 版)

リソグラフィ(Lithography)




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リソグラフィ

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2022/03/07 07:56 UTC 版)

回折格子」の記事における「リソグラフィ」の解説

工業製品としての回折格子フォトリソグラフィ技術用いて量産されることが多い。

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リソグラフィ

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』 (2019/05/21 03:21 UTC 版)

高屈折率高分子」の記事における「リソグラフィ」の解説

高屈折率高分子液浸リソグラフィへの応用期待されている。液浸リソグラフィは半導体素子等を製造する技術で、フォトレジストと高屈折率液体用いる。フォトレジストには屈折率が1.90より高い材料求められており、非芳香族硫黄含有する高分子材料最適考えられている。

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