三省堂 大辞林

イオン-ちゅうにゅう ―にふ 4 【―注入】

〔ion implantation〕半導体に不純物を添加する方法の一。不純物をイオン化してビームにし、電気的に制御しながら目的の半導体に注入するので、正確に添加量やその分布を変えることができる。現在の IC 生産技術の中核の一。